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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展首頁(yè)-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印設(shè)備-UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào):
簡(jiǎn)要描述:UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專(zhuān)門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì),操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備??蓪?shí)現(xiàn)4英寸以下基底面積上高精度(優(yōu)于10nm * )、高深寬比(優(yōu)于10比1 * )納米結(jié)構(gòu)壓印,適合用作紫外納米壓印光刻工藝開(kāi)發(fā),器件原型快速驗(yàn)證,納米壓印材料測(cè)試等研發(fā)。
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength有效保修
Valid Warranty質(zhì)量保障
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UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專(zhuān)門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì),操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備??蓪?shí)現(xiàn)4英寸以下基底面積上高精度(優(yōu)于10nm * )、高深寬比(優(yōu)于10比1 * )納米結(jié)構(gòu)壓印,適合用作紫外納米壓印光刻工藝開(kāi)發(fā),器件原型快速驗(yàn)證,納米壓印材料測(cè)試等研發(fā)。它沿用天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系,在UniPrinter上開(kāi)發(fā)的工藝可以無(wú)障礙轉(zhuǎn)移到天仁微納其它量產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行生產(chǎn)。
UniPrinter納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、線(xiàn)光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED等應(yīng)用領(lǐng)域的研發(fā)。
● 沿用天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系,開(kāi)發(fā)的工藝可以無(wú)障礙轉(zhuǎn)移到量產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行生產(chǎn)
● 直徑100mm以下面積高精度、高深寬比納米壓印
● 設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具
● 自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模,工藝過(guò)程無(wú)需人工干預(yù)
● 標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>300mW/cm2 ),支持各種納米壓印材料
● 隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程,幫助客戶(hù)零門(mén)檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平
兼容基底尺寸 | 直徑≤100mm |
支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
納米壓印技術(shù) | 適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印 |
壓印精度 | 優(yōu)于10納米* |
結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
殘余層控制 | 可小于10nm* |
紫外固化光源 | 紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>300mW/cm2 |
自動(dòng)壓印 | 支持 |
自動(dòng)脫模 | 支持 |
自動(dòng)工作模具復(fù)制 | 支持 |
上下片方式 | 手動(dòng)上下片 |
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